ТОМСК, 21 дек – РИА Томск. Ученые Томского госуниверситета систем управления и радиоэлектроники (ТУСУР) разрабатывают технологию нанесения тонких пленок; скорость нанесения таких покрытий будет в 10 раз быстрее по сравнению с существующими методами, сообщается во вторник на сайте вуза.
Уточняется, что нанесение тонких пленок востребовано во многих высокотехнологичных отраслях. В микроэлектронике их используют для изоляции, в других случаях – для повышения прочности и придания изделию антикоррозийных свойств. Для нанесения тонких пленок широко применяется магнетронное распыление. Главный недостаток этого метода – ограничение скорости.
Проект ТУСУРа предполагает создание такой технологии нанесения оксидных покрытий, которая обеспечит увеличение скорости нанесения в 10 раз (без увеличения стоимости). Так, сообщается, что на протяжении длительного времени ученые исследуют эмиссию электронов из газоразрядной плазмы, и один из результатов этой работы – создание плазменных электронных источников, формирующих электронные пучки в условиях предварительного вакуума (форвакуум).
"Наши электронные источники могут работать при более высоких значениях давления, а значит, при более высоком содержании кислорода в вакуумной рабочей камере. Мы рассчитываем, что <...> при испарении диэлектрической мишени мы сможем получать слои, которые будут отличаться лучшими свойствами при сохранении высокой скорости осаждения", – цитируется в сообщении профессор ТУСУРа Виктор Бурдовицин.
Отмечается, что итогом исследований, которые должны завершиться уже через два года, станут рекомендации по выбору режимов осаждения покрытий с наилучшими свойствами. Это откроет возможность перед инженерами, минуя стадию научных исследований, приступить к масштабированию оборудования и отработке технологии.Проект ТУСУРа "Создание научных основ технологии нанесения оксидных покрытий электронно-лучевым испарением материалов в кислородной среде" получил грантовую поддержку Российского научного фонда (РНФ).