© с сайта ТУСУРа
ТОМСК, 21 дек – РИА Томск. Ученые Томского госуниверситета систем управления и радиоэлектроники (ТУСУР) разрабатывают технологию нанесения тонких
пленок; скорость нанесения таких покрытий будет в 10 раз быстрее по сравнению с
существующими методами, сообщается во вторник на сайте вуза.
Уточняется, что нанесение тонких пленок востребовано во многих
высокотехнологичных отраслях. В микроэлектронике их используют для изоляции, в
других случаях – для повышения прочности и придания изделию антикоррозийных
свойств. Для нанесения тонких пленок широко применяется магнетронное
распыление. Главный недостаток этого метода – ограничение скорости.
Проект ТУСУРа предполагает создание такой технологии нанесения оксидных
покрытий, которая обеспечит увеличение скорости нанесения в 10 раз (без
увеличения стоимости). Так, сообщается, что на протяжении длительного времени
ученые исследуют эмиссию электронов из газоразрядной плазмы, и один из
результатов этой работы – создание плазменных электронных источников,
формирующих электронные пучки в условиях предварительного вакуума (форвакуум).
"Наши электронные источники могут работать при более высоких значениях
давления, а значит, при более высоком содержании кислорода в вакуумной рабочей
камере. Мы рассчитываем, что <...> при испарении диэлектрической мишени
мы сможем получать слои, которые будут отличаться лучшими свойствами при
сохранении высокой скорости осаждения", – цитируется в сообщении профессор
ТУСУРа Виктор Бурдовицин.
© РИА Томск. Павел Стефанский
Отмечается, что итогом исследований, которые должны завершиться уже через
два года, станут рекомендации по выбору режимов осаждения покрытий с наилучшими
свойствами. Это откроет возможность перед инженерами, минуя стадию научных
исследований, приступить к масштабированию оборудования и отработке технологии.
Проект ТУСУРа "Создание научных основ технологии нанесения оксидных
покрытий электронно-лучевым испарением материалов в кислородной среде"
получил грантовую поддержку Российского научного фонда (РНФ).